概要

高硬度、高密度、高强度的材料，拥有优异的耐消耗（耐离子光束）、低微粒性的性能。

特征

低消耗性、低微粒性

拥有对离子光束的耐消耗性以及低微粒性，可用于离子注入装置的部件。

高纯度

杂质含有量为100ppm以下，通过纯化处理可以满足5ppm以下要求。

功能

因其低消耗性(耐离子光束)、低微粒性以及高純特点，适用于离子注入装 置部件，可以提高注入晶片的成品率。

技术数据

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